所以对PHA进行必要的修饰是必要的。但是由于PHA分子中存在大量的惰性基团，德谦ADS附着力促进剂缺乏必要的活性位点，且其分子量大，化学修饰困难。对P3/4HB膜进行等离子体改性前，其静电接触角为122°，在高疏水性条件下，用氧等离子体处理后，静电接触角显著降低，达到78°，具有中等的亲水性。
通过结果分析，德谦adp附着力分子量发现主要有三个原因：1、等离子体清洗设备所产生放电，将酚类羟基(-OH)、羧酸羧基(-COOH)、联基(C=O)等亲水基团引入表面，提高材料表面的润湿性，大幅度提高基体表面的粘合力和粘接强度。2、等离子清洗技术所产生的等离子体使材料分子键打开，所产生的交联作用和低分子量污染物被去除，材料表面形成清洁强的界面层，促进粘合力和粘接强度的提高。
处理后的PDMS与硅表面匹配，德谦adp附着力分子量两表面的Si-OH反应为:2Si-OH@Si-O-Si+2H20。硅衬底与PDMS之间形成较强的Si-O键，从而完成不可逆键合。一般认为，在PDMS与PDMS、PDMS与硅或玻璃的键合过程中，基板与盖板应在表面活化后1～10分钟内键合，否则无法完成共价键结合。目前对这一现象比较一致的观点是PDMS块体内的低分子量基团迁移到表面，逐渐覆盖了表面的OH基团。
如果您有更多等离子表面清洗设备相关问题，德谦adp附着力分子量欢迎您向我们提问（广东金徕科技有限公司）
德谦ADS附着力促进剂
